| 論文 |
表面シリサイド形成層と下地金属界面の電界イオン顕微鏡による評価 |
共著 |
1999.3 |
真空誌、第42巻3号 |
田中洋晶・奥野公夫 |
ｐ.228 |
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表面シリサイド形成層の初期酸化 |
共著 |
2000.3 |
真空誌、第43巻3号 |
田中洋晶・奥野公夫 |
ｐ.241 |
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Field Ion Microscopic Observation of Silicide Formation and Substrate Metal Interfaces |
共著 |
2000.6 |
Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 39 (1999) |
Kimio OKUN and Hiroaki TANAKA |
pp. 4120-4125 |
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Si, Ge 蒸着層と下地原子層との界面反応過程の研究 |
共著 |
2001.3 |
真空誌、第44巻3号 |
堀尾順也・奥野公夫 |
pp. 202-205 |
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Tungsten Silicide and Germanide Growth and Metal Interface |
共著 |
2004.7 |
Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 43(2004) |
Kimio OKUNO and Junya HORIO |
pp. 4316-4321 |
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プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜成長 |
共著 |
2004.10 |
第4５回真空に関する連合講演会予稿集 |
古本隆志、奥野公夫 |
28p-30 |
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Silicide and Germanide Growth and Metal Interface |
共著 |
2002.7 |
48th International Field Emission Symposium |
Kimio OKUNO and Junya HORIO |
PT-72 |
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水素希釈メタンプラズマガス-基板相互作用 |
共著 |
2006. 9 |
真空誌､Vo. 49 (2006) No.9 |
奥野公夫、 古本隆志 |
pp. 566-569 |
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プラズマCVD法によるダイヤモンド薄膜成長 |
共著 |
2004. 10 |
第45回真空に関する連合講演会予稿集 |
古本隆志、奥野公夫 |
p. 77 |
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ダイヤモンド成長用プラズマガスー基板相互作用のCVD-FIMによる評価 |
共著 |
2005. 9 |
弟66回応用物理学会学術講演会講演予稿集 |
奥野公夫､古本隆志 |
11a-M-1 |
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CVD-FIMによる水素希釈メタンプラズマガス-基板相互作用とカーボンクラスター形成 |
共著 |
2006.8 |
第67回応用物理学会学術講演会講演予稿集 |
奥野公夫 劉 来 |
29p-X-11 |
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水素希釈メタンプラズマガスー基板相互作用 （Ⅱ） |
共著 |
2007. 11 |
第48回真空に関する連合講演会講演予稿集 |
劉 来、 陳 禮岳､奥野公夫 |
p. 177 |
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Hydrogen Diluted Methane Plasma gas-Metal Substrate Interaction |
共著 |
2008.5 |
Jpn．J．Appl．Phys., Vol. 47 (2008) No5 |
K. OKUNO, Rai RUI, and T. FURUMOTO |
pp. 3584-3589 |
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Hydrogen Diluted Methane Plasma Gas-Metal Substrate Interaction and Pre-Diamond Formation |
単著 |
2008.10.29 |
4th Vacuum and Surface Sciences Conference of Asia and Australia (VASSCAA-4) |
Kimio OKUNO |
29P017 |
